跟着半导体工业的不断开展，对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严厉。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因而半导体职业的超纯水与其他职业的用水要求不同。半导体职业对超纯水有极其严厉的水质要求。现在，我国常用的超纯水规范有国家规范《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)和美标。 在半导体出产过程中，硼是一种p型杂质。过量会使n型硅反转，然后影响电子和空穴的浓度。因而，在超纯水工业中应充分考虑硼的去除。硼离美标中e1.3中要求小于0.05。假如硼离子含量可以到达较低的指标，则必然会进步半导体的性能。
Huncotte体系选用核级树脂，可经过共同的靶向离子交换树脂有用控制体系出水的硼离子含量。选用IPC-MS检测硼离子含量，并对硼离子流出物进行分析≤ 0.005μG/L远低于美标E1.3中要求的硼离子含量。 今天，莱特莱德集装箱海水淡化设备已出厂检验。莱特莱德集装箱海水淡化设备处理了空间限制，安装便利、体积小、操作简略。 现在，在水资源紧缺的情况下，加强海水淡化的国产化技能研制，在水资源再利用方面，推行海水淡化设备显得尤为重要，并且现代海水淡化设备也逐渐步入了现代这个快速开展的时代，其有用性和可靠性也越来越被人们所认可。
半导体职业是一个高能耗的职业。在半导体产品制作过程中，由于出产设备的精密性和出产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对超纯水体系的运用要求更高。 在半导体制作工艺中，50%以上的工序中硅片与超纯水直接接触、80%以上的工序需求进行化学处理，而化学处理又与超纯水有关水中的杂质会进入硅片，如带入过量的杂质，就会导致器件功能下降、影响产品功能。因而，制备高品质的超纯水已成为发展大规模集成电路的重要前提技能。
