超纯水是为了研制超纯资料(半导体原件资料、纳米精密陶瓷资料等)运用蒸馏、去离子化、反渗透技能或其它适当的超临界精密技能出产出来的水，不宜饮用。 这样的水是一般工艺很难到达的程度，应该运用超纯水设备进行制备。专业的超纯水设备由预处理(多介质过滤+超滤设备)体系+反渗透体系+EDI电除盐体系+抛光混床体系组成，保证出水水质满足18.2MΩ·cm电子级水产水指标。
半导体职业是一个高能耗的职业。在半导体产品制作过程中，由于出产设备的精密性和出产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对超纯水体系的运用要求更高。 在半导体制作工艺中，50%以上的工序中硅片与超纯水直接接触、80%以上的工序需求进行化学处理，而化学处理又与超纯水有关水中的杂质会进入硅片，如带入过量的杂质，就会导致器件功能下降、影响产品功能。因而，制备高品质的超纯水已成为发展大规模集成电路的重要前提技能。
超纯水设备成果英勇的“芯” 芯片制作的每一道工序都离不开超纯水，只要水质纯洁了，才能保证每一步的正常运转。超纯水设备为芯片制作保驾护航。传统超纯水制备工艺一般运用离子交换树脂，但离子交换树脂的运用一般需求定期的树脂再生，这既耗费材料又耗费人力。超纯水设备选用超纯水设备选用反渗透工艺，或选用反渗透后离子交换混床、电去离子EDI工艺或抛光混床出产超纯水，以保证出水水质符合职业标准，满足芯片职业用水需求，成果英勇的“芯”。
